應用通道保護層於透明非晶態銦鋅錫氧化物薄膜電晶體技術之研究

標題:	應用通道保護層於透明非晶態銦鋅錫氧化物薄膜電晶體技術之研究 Study on the effect of channel passivation layer on Transparent Amorphous Indium Zinc Tin Oxide thin film transistors
作者:	吳昱達 Wu, Yu-Ta 劉柏村徐嘉鴻 Liu, Po-Tsun Hsu, Chia-Hung 顯示科技研究所
關鍵字:	銦錫鋅氧化物薄膜電晶體;通道保護層;In-Sn-Zn-O TFT;passivation
公開日期:	2014
URI:	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT070150605 http://hdl.handle.net/11536/76217
顯示於類別：	畢業論文