標題: 應用通道保護層於透明非晶態銦鋅錫氧化物薄膜電晶體技術之研究
Study on the effect of channel passivation layer on Transparent Amorphous Indium Zinc Tin Oxide thin film transistors
作者: 吳昱達
Wu, Yu-Ta
劉柏村
徐嘉鴻
Liu, Po-Tsun
Hsu, Chia-Hung
顯示科技研究所
關鍵字: 銦錫鋅氧化物薄膜電晶體;通道保護層;In-Sn-Zn-O TFT;passivation
公開日期: 2014
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT070150605
http://hdl.handle.net/11536/76217
顯示於類別:畢業論文