垂直入射移相干涉術測量物體二維階高及折射率分佈

Abstract

利用垂直入射法及移相干涉術，來得到待測物在二維折射率及高度變化的分佈，實驗結構上皆以Twyman-Green干涉儀為基本架構，如此可以達到省時、且操作便利等優點。在二維高度變化測量方面，藉由PZT移相，先以單波長移相干涉術測量樣本表面細微的二維高度變化，再以雙波長移相干涉術來量測量大階高的高度分佈並使其成像，最後藉由色度圖及剖面圖表示待測物體不同的高度變化。在測量折射率方面，藉由電光晶體EO移相，首先一線性偏振光經過四分之一波片後，會成為一個左右旋光的旋光光源，接著經由分光鏡BS將此旋光分成反射光及穿透光兩部份;反射光垂直入射至待測物，經由待測物反射之後，再經過BS反射並穿過檢偏板AN後進入CCD中，另一方面，穿透光通過一四分之ㄧ波片之後入射至面鏡，再經由面鏡反射再次通過Q2，最後穿過BS及AN後，進入同一個CCD中。由CCD所得到干涉信號光強度，利用EO移相法，作五步驟移相，導出二維相位分佈與折射率之間的關係式。本研究具有操作簡單、精確、迅速以及方便等優點。