標題: 氣化氫氟酸在奈米金氧半電晶體之應用及其設備之開發(III)
Processes and System Development of HF-Vapor for Nano MOSFETs' Application(III)
作者: 趙天生
CHAO TIEN-SHENG
國立交通大學電子物理學系(所)
公開日期: 2007
官方說明文件#: NSC96-2221-E009-189
URI: http://hdl.handle.net/11536/88580
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1471819&docId=264231
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