標題: | 高介電氧化層奈米CMOS元件可靠性關鍵問題及界面量測技術研究(II) Key Reliability Issues and Interface Characterization Techniques for High-K Nano-CMOS Devices(II) |
作者: | 莊紹勳 Chung Steve S 交通大學電子工程系 |
公開日期: | 2004 |
官方說明文件#: | NSC93-2215-E009-026 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/91018 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1026678&docId=195176 |
顯示於類別: | 研究計畫 |