學研合作計畫---次22奈米金屬閘極/高介電質場效電晶體及記憶體技術平台(III)

標題:	學研合作計畫---次22奈米金屬閘極/高介電質場效電晶體及記憶體技術平台(III) Sub-22nm Metal-Gate/High-Κ CMOS and Embedded Memory Platform
作者:	荊鳳德 CHIN ALBERT 國立交通大學電子工程學系及電子研究所
公開日期:	2013
官方說明文件#:	NSC102-2120-M009-002
URI:	http://hdl.handle.net/11536/91892 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=3084858&docId=414572
顯示於類別：	研究計畫