實用銅膜之化學氣相沉積技術研究(I)

標題:	實用銅膜之化學氣相沉積技術研究(I) Study and Development of Practical Copper Film Deposition by CVD method (I)
作者:	陳茂傑交通大學電子工程系
公開日期:	2002
官方說明文件#:	NSC91-2215-E009-043
URI:	http://hdl.handle.net/11536/92657 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=784401&docId=150769
Appears in Collections:	Research Plans