標題: | 12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---總計畫(III) Research and Development of CVD Process Equipment for a 12-Inch Single Silicon Wafer and Growth of BST Dielectric Thin Film (III) |
作者: | 林清發 LIN TSING-FA 交通大學機械工程研究所 |
公開日期: | 2002 |
官方說明文件#: | NSC91-2212-E009-038 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/93056 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=782996&docId=150396 |
顯示於類別: | 研究計畫 |