標題: 複晶矽鍺與MILC在低溫複晶矽薄膜電晶體上之應用---子計畫III:MILC低溫複晶矽薄膜電晶體之退火製程開發、新穎結構及小尺寸元件之製作及研究(I)
Study of Low Temperautre MILC Poly-Si Film and Its Application on Novel Strucutre Small Dimensional TFTs (I)
作者: 張俊彥
CHANG CHUN-YEN
國立交通大學電子工程學系
關鍵字: 低溫;多晶矽鍺;薄膜電晶體;退火製程;Low temperature;Poly SiGe;Thin film transistor (TFT);Annealing process
公開日期: 2001
官方說明文件#: NSC90-2215-E009-078
URI: http://hdl.handle.net/11536/94109
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=665740&docId=126384
顯示於類別:研究計畫