離子佈植技術在淺接面製作及介電材料後處理之應用

Date

Authors

Keywords

離子佈置 , 淺接面 , 介電材料 , 隨機存取記憶體 , 洩漏電流 , 分凝 , Ion implantation , Shallow junction , Dielectric material , DRAM , Leakage current , Segregation

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418159&docId=74178
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94269

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研究計畫;;Research Plans