離子佈植技術在淺接面製作及介電材料後處理之應用

標題:	離子佈植技術在淺接面製作及介電材料後處理之應用 Applications of Ion Implantation on the Fabrication of Shallow Junctions and the Post-treatment of Dielectric Materials
作者:	曾堅信國立交通大學毫微米實驗室
關鍵字:	離子佈置;淺接面;介電材料;隨機存取記憶體;洩漏電流;分凝;Ion implantation;Shallow junction;Dielectric material;DRAM;Leakage current;Segregation
公開日期:	1999
官方說明文件#:	NSC88-2215-E317-006
URI:	http://hdl.handle.net/11536/94269 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418159&docId=74178
顯示於類別：	研究計畫