8吋矽晶半導體LPCVD製程設備之研發---總計畫(III)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	林清發	en_US
dc.contributor.author	LIN TSING-FA	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:37:14Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:37:14Z	-
dc.date.issued	1999	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC88-2218-E009-001	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/94464	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=431210&docId=77294	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	LPCVD反應爐	zh_TW
dc.subject	薄膜成長	zh_TW
dc.subject	熱流設計	zh_TW
dc.subject	LPCVD reactor	en_US
dc.subject	Thin film growth	en_US
dc.subject	Thermal fluid design	en_US
dc.title	8吋矽晶半導體LPCVD製程設備之研發---總計畫(III)	zh_TW
dc.title	Research and Development of LPCVD Process Equipment for Eight Inch Single Silicon Wafer (III)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學機械工程系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫

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