嵌附式減光式相移光罩之模擬與製備

標題:	嵌附式減光式相移光罩之模擬與製備 Simulation and Fabrication of Embedded Attenuated Phase-Shifting Mask
作者:	龍文安 Loong Wen-an 國立交通大學應用化學系
關鍵字:	微影成像;相移光罩;活性離子蝕刻;電子束微影;Microlithography;Phase-shifting mask;Reactive ion etching;E-beam lithography
公開日期:	1998
官方說明文件#:	87-2215-E-009-053
URI:	http://hdl.handle.net/11536/94845 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=409017&docId=72411
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