| 標題: | 嵌附式減光式相移光罩之模擬與製備 Simulation and Fabrication of Embedded Attenuated Phase-Shifting Mask |
| 作者: | 龍文安 Loong Wen-an 國立交通大學應用化學系 |
| 關鍵字: | 微影成像;相移光罩;活性離子蝕刻;電子束微影;Microlithography;Phase-shifting mask;Reactive ion etching;E-beam lithography |
| 公開日期: | 1998 |
| 官方說明文件#: | 87-2215-E-009-053 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/94845 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=409017&docId=72411 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
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