標題: 以深蝕光刻術製作聚焦環---總計畫
Fresnel Zone Plate Via Deep X-Ray Lithography
作者: 蘇翔
國立交通大學電子工程研究所
關鍵字: 同步輻射;深蝕光刻術;Synchrotron radiation;Deep X-ray lithography
公開日期: 1996
官方說明文件#: NSC85-2215-E009-008
URI: http://hdl.handle.net/11536/95615
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=229976&docId=41766
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