標題: 以深蝕光刻術製作聚焦環---子計畫一:聚焦環之中間光罩製作
Frabrication of Intermediate Masks for Fresnel Zone Plates
作者: 蘇翔
國立交通大學電子工程學系
關鍵字: X光;光罩;鼓膜;吸收劑;碳化矽;鑽石膜;深寬比;聚焦環;X-ray;Masks;Membrane;Absorber;Silicon carbide;Diamond film;Aspect ratio;Fresnel zone plates
公開日期: 1996
官方說明文件#: NSC85-2215-E009-009
URI: http://hdl.handle.net/11536/95616
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=229981&docId=41767
顯示於類別:研究計畫