標題: 陶瓷薄膜在核能電廠管路組件與工模具壽命之改善與應用---子計畫II:新AIP法高機能性硬質薄膜之製程與特性研究
Study of the Processing and Properties of the New Arc Ion Plating Hard Thin Films
作者: 陳家富
CHEN CHIA-FU
國立交通大學材料科學工程研究所
關鍵字: 薄膜;陶瓷;離子鍍層法;電漿鍍;Thin film;Ceramic;Ion plating;Plasma deposition
公開日期: 1996
官方說明文件#: NSC85-2216-E009-014
URI: http://hdl.handle.net/11536/96222
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=206895&docId=36556
顯示於類別:研究計畫