標題: | 陶瓷薄膜在核能電廠管路組件與工模具壽命之改善與應用---子計畫II:新AIP法高機能性硬質薄膜之製程與特性研究 Study of the Processing and Properties of the New Arc Ion Plating Hard Thin Films |
作者: | 陳家富 CHEN CHIA-FU 國立交通大學材料科學工程研究所 |
關鍵字: | 薄膜;陶瓷;離子鍍層法;電漿鍍;Thin film;Ceramic;Ion plating;Plasma deposition |
公開日期: | 1996 |
官方說明文件#: | NSC85-2216-E009-014 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/96222 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=206895&docId=36556 |
顯示於類別: | 研究計畫 |