脈衝雷射蒸鍍和造形高溫超導微波元件之研究 (I)

標題:	脈衝雷射蒸鍍和造形高溫超導微波元件之研究 (I) Study the Pulsed Laser Deposition and Patterning of High Tc Superconducting Thin Films for Mircowave Device Application(I)
作者:	吳光雄 WU KAUNG-HSIUNG 國立交通大學電子物理研究所
關鍵字:	脈衝雷射蒸鍍;超導薄膜;雙面蒸鍍;三層膜蒸鍍;雷射造形;超導微波電子元件;Pulsed laser deposition;Superconducting thin films;Double size deposition;Trilayer deposition;Laser patterning;Mircowave electronic devices
公開日期:	1994
摘要:	本研究計畫係延續前兩年所建立之脈衝雷射製備釔系高溫超導薄膜之技術經驗和具體研究成果,深入探討薄膜成長之起始狀態,以進一步達到可控制之超薄超導薄膜成長,並改進薄膜超導特性和其表面狀態,以便達到製作高溫超導微波電子元件所須之薄膜品質要求.本計畫亦將建立大面積□雙面蒸鍍技術□以符合應用之須求.除了單層薄膜蒸鍍外,我們亦將研製超導/絕緣/超導和超導/導體/超導之三疊層結構,以提供適合作精密被動和主動微波元件所須之薄膜.本研究計畫亦將建立雷射造形系統, 研究雷射造形高溫超導薄膜之技術,並嘗試利用此方法製備高可靠度之超導微波元件且量測其物理特性.
官方說明文件#:	NSC83-0212-M009-022
URI:	http://hdl.handle.net/11536/97152 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=71547&docId=10677
顯示於類別：	研究計畫