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九月-2016Interface Characterization of HfO2/GaSb MOS Capacitors With Ultrathin Equivalent Oxide Thickness by Using Hydrogen Plasma TreatmentTsai, Ming-Li; Ko, Jun-Yu; Wang, Shin-Yuan; Chien, Chao-Hsin; 電子工程學系及電子研究所; Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1-一月-2010Study of the inversion behaviors of Al2O3/InxGa1-xAs metal-oxide-semiconductor capacitors with different In contentsWu, Yun-Chi; Chang, Edward Yi; Lin, Yueh-Chin; Kei, Chi-Chung; Hudait, Mantu K.; Radosavljevic, Marko; Wong, Yuen-Yee; Chang, Chia-Ta; Huang, Jui-Chien; Tang, Shih-Hsuan; 材料科學與工程學系; 電子工程學系及電子研究所; Department of Materials Science and Engineering; Department of Electronics Engineering and Institute of Electronics
1999化學氣相沈積氧化鉭在Noble金屬電極之動態隨機存取記憶體電容器之研究羅正忠; 交通大學電子工程系
2013噴印鈦酸鋇奈米顆粒之表面型態研究及應用於複合介電層可撓式電容元件梁雁汝; Liang, Yen-Ju; 吳樸偉; 鄭裕庭; Wu, Pu-Wei; Cheng, Yu-Ting; 材料科學與工程學系所
2017在介面改質與不同製程條件下，HTO鍺鐵電電容的特性探討范景淳; 荊鳳德; Fan, Ching-Chun; Chin, Feng-Der; 電子研究所
2006準分子雷射低溫製備之鈦酸鍶鉛薄膜元件特性分析之研究王志良; Jyh-Liang Wang; 鄭晃忠; Huang-Chung Cheng; 電子研究所
2000隨機記憶體用超薄氧化鉭介電薄膜電容之研發林鵬; LIN PANG; 交通大學材料科學與工程系
1999隨機記憶體用高介電薄膜電容之研發(III)林鵬; LIN PANG; 交通大學材料科學與工程研究所
2006高介電係數介電質在金氧金電容之研究江國誠; Kuo-Cheng Chiang; 荊鳳德; Albert Chin; 電子研究所
2006高介電常數介電質於金屬-絕緣層-金屬電容之電性研究簡俊全; Chun-Chuan Chien; 荊鳳德; Albert Chin; 電子研究所
2006高介電常數金屬-絕緣層-金屬電容電性及其可靠度之研究陳冠麟; Guan Lin Chen; 荊鳳德; Albert Chin; 電子研究所
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