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19998吋晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計劃IV：利用LPCVD法成長Ta/sub 2/O/sub 5/薄膜與特性分析(III)曾俊元; TSEUNG-YUENTSENG; 交通大學電子工程系
19998吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫II：LPCVD製程設備中加熱系統之熱輻射量測及晶圓熱應力分析(III)曲新生; CHU, HSIN-SEN; 交通大學機械工程研究所
19998吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫I：LPCVD製程設備之加熱及進氣系統設計、流場模擬與系統整合及建立(III)林清發; LIN TSING-FA; 交通大學機械工程系
19978吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫四：利用LPCVD法成長Ta/sub 2/O/sub 5/薄膜與特性分析(I)曾俊元; TSEUNG-YUENTSENG; 交通大學電子工程系
5-五月-2020Thermal design aspects for improving temperature homogeneity of silicon wafer during thermal processing in microlithographyMuneeshwaran, M.; Wang, Chi-Chuan; 機械工程學系; Department of Mechanical Engineering
1998八吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫一：LPCVD製程設備之加熱及進氣系統設計、流場模擬與系統整合及建立(II)林清發; LIN TSING-FA; 交通大學機械工程系
1998八吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫二：LPCVD製程設備中加熱系統之熱輻射量測及晶圓熱應力分析(II)曲新生; CHU, HSIN-SEN; 交通大學機械工程系
2005利用類神經方法建構晶圓缺陷點群聚圖案之辨識系統張喬凱; Chaio-Kai Chang; 唐麗英; 張永佳; Lee-Ing Tong; Yung-Chia Chang; 工業工程與管理學系
2001垂直圓柱容器中向下強制氣流流過一水平加熱晶圓之渦旋流結構與相關熱傳特性研究(I)林清發; LIN TSING-FA; 國立交通大學機械工程研究所
1998快速熱程序爐中晶圓及加熱系統之熱輻射性質量測張謙成; Chien-Cheng Chang; 曲新生; Hsin-Sen Chu; 機械工程學系
2017應用實驗設計法提升蝕刻機台再啟動時線寬穩定性-以P公司為例蘇建裕; 唐麗英; 洪瑞雲; Su, Chien-Yu; Tong, Lee-Ing; Horng, Ruey-Yun; 管理學院工業工程與管理學程
2016探討乾式電漿蝕刻對晶圓缺陷的影響劉嘉群; 楊界雄; 光電科技學程
1998熱程序動態模式建立參數判別及溫度控制(II)林清安; LIN CHING-AN; 交通大學控制工程系
2001田口方法於矽晶圓廠長晶製程改善之應用邱創志; Chuang-Chi Chiu; 蘇朝墩; Chao-Ton Su; 管理學院工業工程與管理學程
1995積體電路晶圓廠直接人力管理研究嚴守仁; Yen, Shou-Jen; 虞孝成; Yu Hsiao-Cheng; 科技管理研究所
1999迴歸分析法在晶圓拋光效益之應用研究傅明堂; Ming-Tang Fu; 鄭璧瑩; Pi-Ying Cheng; 機械工程學系
1999電子資訊產業供應鏈管理---子計畫II：晶圓製造設備備用零件及光罩需求管理之研究李慶恩; 交通大學工業工程與管理系
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