瀏覽 的方式: 作者 Chang, Yi Edward

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公開日期標題作者
24-六月-2010Method for forming required pattern on semiconductor substrate by thermal reflow techniqueChang, Yi Edward; Chang, Chia-Ta; Hsiao, Shih-Kuang
2011以深紫外光微影製作具傾斜型電場板之氮化鋁鎵/氮化鎵高電子遷移率電晶體黃祿哲; Huang, Lu-Che; 張翼; Chang, Yi Edward; 工學院半導體材料與製程設備學程
2008使用高分子基材建立一電容式超音波換能器蘇煜翔; Su, Yi-Hsiang; 張翼; Chang, Yi Edward; 材料科學與工程學系
2012利用有機化學氣相沉積法成長高品質砷化銦鎵在砷化鎵基板上以及材料成長機制研究和其在 金氧半電容器之應用溫宏寬; Nguyen, Hong Quan; 張翼; Chang, Yi Edward; 材料科學與工程學系
2009利用閘極掘入方式製作增強型高截止電壓氮化鋁鎵/氮化鎵/氮化鋁鎵金屬-絕緣體-半導體高電子遷移率電晶體之研究陳奕仲; Chen, Yi-Chung; 張翼; Chang, Yi Edward; 材料科學與工程學系
2012廠務外包作業管理及安全危害分析 -以晶圓廠氣化供應系統外包為例江國安; Chiang, Kuo An; 張翼; Chang, Yi Edward; 工學院產業安全與防災學程
2009用於太陽電池之氮化矽次波長抗反射結構設計與樣品試製Kartika; Sahoo, Kartika Chandra; 張翼; Chang, Yi Edward; 材料科學與工程學系
2012矽甲烷槽車供應安全評估熊淑珍; Hsiung, Shu-Chen; 張翼; 謝明宏; Chang, Yi Edward; Hsieh, Ming-Hong; 工學院產業安全與防災學程
2011藉由兩階段矽鍺緩衝層以成長鍺磊晶層於矽基板上之研究陳哲霖; 張翼; 馬哲申; Chang, Yi Edward; Maa, Jer-Shen; 照明與能源光電研究所
2008超大型積體電路製程之側壁間隔物蝕刻之改善吳正一; Wu, Cheng-Yi; 張翼; Chang, Yi Edward; 工學院半導體材料與製程設備學程
2010配向膜離子電荷殘留降低對顯示器之殘像研究杜鉛鑫; Tu, Chien Hsin; 張翼; Chang, Yi Edward; 工學院半導體材料與製程設備學程
2009針對半導體製程金屬層良率提昇研究黃景裕; Huang, Ching-Yu; 張翼; Chang, Yi Edward; 工學院半導體材料與製程設備學程
2009銅金屬化製程及閘極介電層於低成本、低功率損耗AlGaAs/InGaAs假晶高電子遷移率電晶體單刀雙擲開關之應用吳雲驥; Wu, Yun-Chi; 張翼; Chang, Yi Edward; 材料科學與工程學系