標題: 高密度電漿源設計製作及其應用在半導體製程發展(III)
Development of High Density Plasma Sources for VLSI/ULSI Processing (III)
作者: 蔡春鴻
C.H.Tsai
交通大學電信工程系
關鍵字: 電漿源;超大型積體電路;極大型積體電路;Plasma source;VLSI;ULSI
公開日期: 2000
官方說明文件#: NSC89-CS-D009-014
URI: http://hdl.handle.net/11536/101326
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=542283&docId=99633
顯示於類別:研究計畫