| 標題: | 高密度電漿源設計製作及其應用在半導體製程發展(III) Development of High Density Plasma Sources for VLSI/ULSI Processing (III) |
| 作者: | 蔡春鴻 C.H.Tsai 交通大學電信工程系 |
| 關鍵字: | 電漿源;超大型積體電路;極大型積體電路;Plasma source;VLSI;ULSI |
| 公開日期: | 2000 |
| 官方說明文件#: | NSC89-CS-D009-014 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/101326 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=542283&docId=99633 |
| Appears in Collections: | Research Plans |
