標題: | 高耐壓功率電晶體的設計與製造 |
作者: | 沈志豪 Shen, Zhi-Hao 張俊彥 謝正雄 Zhang, Zun-Yan Xie, Zheng-Xiong 電子研究所 |
關鍵字: | 電子工程;ELECTRONIC-ENGINEERING |
公開日期: | 1974 |
摘要: | 本文中述及高耐壓功率電晶體的設計與製造的方法。實驗結果:耐壓六00伏 特,直流放大最高為八。設計方法和理論均與實驗結果相差不遠;同時和一般工商 業所用之高耐壓電晶體大致符合,此證明所發展的設計製作方法的可行性。 本文共有一冊,全冊大略有一萬多字;文中分為五大節。 第一節 為介紹(其中介紹著者所使用製作方法之特性,並與其它之製作方法 作一概略之介紹和比較)。 第二節 為理論之推論,(其中包括兩部份:理論和設計。理論部份是根據一 般參考書之推論;而設計部份係由理論之推論而作有效之方法之設計)。 第三節 為實驗結果和程序。 第四節 為討論(其中討論製作時所遇之情形)。 第五節 為結論。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT634430001 http://hdl.handle.net/11536/51036 |
Appears in Collections: | Thesis |