雙狹縫斑點全像干涉術對位移之分析

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	吳上富	en_US
dc.contributor.author	Wu, Shang-Fu	en_US
dc.contributor.author	張明文	en_US
dc.contributor.author	黃廣志	en_US
dc.contributor.author	Zhang, Ming-Wen	en_US
dc.contributor.author	Huang, Guang-Zhi	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:01:36Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:01:36Z	-
dc.date.issued	1979	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT684430024	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/51171	-
dc.description.abstract	本文主要的目的是研究位置的變化在雙狹縫斑點全像干涉術中所產生的現象，且由基本的位移形態及特性，建立理論模式與實驗系統，並和一船的斑點全像干涉術加以比較。	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	雙狹縫斑點	zh_TW
dc.subject	全像干涉術	zh_TW
dc.subject	對位移之分析	zh_TW
dc.subject	電子工程	zh_TW
dc.subject	ELECTRONIC-ENGINEERING	en_US
dc.title	雙狹縫斑點全像干涉術對位移之分析	zh_TW
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	電子研究所	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文