矽化鎢在複晶矽上之備製及其特性

Abstract

本文將對矽化鎢薄膜的備製及其相關特性做詳細之探討。利用雙電子槍蒸鍍系統可將 不同組成的矽化鎢蒸鍍在二氧化矽及複晶矽上，蒸鍍後的矽化鎢薄膜經過300 ℃到11 00℃的各種高溫，配合不同的時間燒結而成。然後，針對各種特性：片電阻，結構變 化，表面狀況，黏附性，離子佈植效應，以及氧化等進行研究和分析。