矽化鎢在複晶矽上之備製及其特性

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	邱鳳城	en_US
dc.contributor.author	GIU, FENG-CHENG	en_US
dc.contributor.author	陳茂傑	en_US
dc.contributor.author	雷添福	en_US
dc.contributor.author	CHEN, MAO-JIE	en_US
dc.contributor.author	LEI, TIAN-FU	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:03:40Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:03:40Z	-
dc.date.issued	1985	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742430022	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/52425	-
dc.description.abstract	本文將對矽化鎢薄膜的備製及其相關特性做詳細之探討。利用雙電子槍蒸鍍系統可將不同組成的矽化鎢蒸鍍在二氧化矽及複晶矽上，蒸鍍後的矽化鎢薄膜經過300 ℃到11 00℃的各種高溫，配合不同的時間燒結而成。然後，針對各種特性：片電阻，結構變化，表面狀況，黏附性，離子佈植效應，以及氧化等進行研究和分析。	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	矽化鎢	zh_TW
dc.subject	複晶矽	zh_TW
dc.subject	蒸鍍	zh_TW
dc.title	矽化鎢在複晶矽上之備製及其特性	zh_TW
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	電子研究所	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文