抗反射鍍膜及行波式放大器特性測量

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	陳定元	en_US
dc.contributor.author	CHEN, DING-YUAN	en_US
dc.contributor.author	謝正雄	en_US
dc.contributor.author	XIE, ZHENG-XIONG	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:05:23Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:05:23Z	-
dc.date.issued	1988	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT772123036	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/53689	-
dc.description.abstract	以ＳｉＯｘ為真空鍍膜材料，對一個已製成的雷射二極體的二個反射面，分別進行抗反射鍍膜，使它形成行波式雷射放大器。並且分別量度鍍單面，及雙面時此元件光放大率的特性。度量結果顯示，單面鍍膜時放大率比雙面鍍膜者為小，而所加電流越高，放大率就越大，對溫度亦越不敏感。於單面鍍膜的結構，８０ｍＡ之高電流可以得到１８ｄＢ之放大率。其溫度係數小於０．２５ｄＢ╱℃。而雙面鍍膜的結構，在６５ｍＡ即可得到１６ｄＢ之放大率，而其溫度係數小於０．７５ｄＢ╱℃。	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	抗反射鍍膜	zh_TW
dc.subject	行波式	zh_TW
dc.subject	雷射二極體	zh_TW
dc.subject	放大率	zh_TW
dc.subject	放大器	zh_TW
dc.title	抗反射鍍膜及行波式放大器特性測量	zh_TW
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	光電工程學系	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文