标题: | 椭圆测厚仪量测金属性薄膜之光学常数及厚度 |
作者: | 颜瑛慈 YAN,YING-CI 李崇仁 雷添福 LI,CHONG-REN LEI,TIAN-FU 电子研究所 |
关键字: | 椭圆测厚仪;金属性薄膜;光学常数及厚度;光学参数;多入射介质;多入射角;多入射波长;多层膜厚度 |
公开日期: | 1989 |
摘要: | 单一波长,单一入射角的椭圆仪只能量得待测薄膜的任意两个光学参数,因此,必须 再增加一组量测角度,才能测得试片的三个以上的光学参数。前人提出的方法有:(1 ) 多入射介质(Multiple-Incidence Medium );(2) 多入射角 (Multiple-Incidence Angle);(3) 多入射波长 (Multiple Wavelength);(4) 多层膜厚度(Multiple-Film Thickness)。以上方法各有其优劣点,但是都无法准确量测具高吸收性的薄膜的光学 参数。 我们发展出一能够同时测得具有吸收性薄膜的三个光学参数,即折射系数 n,吸收系 数k 及厚度的方法:Multiple Sandwiched Layers Ellipsometry 。我们的做法是将 金属性薄膜同时镀在两片长有不同厚度的二氧化矽层的矽晶片上,使用单一波长,单 一入射角的椭圆测厚仪量测,并经计算机运算即可获得该金属性薄膜的n,k及厚度了 。本研究也提出了Worst Case Error Sensitivity的观念及分析结果以决定量得不同 厚度的金属性薄膜的光学参数所需的最适二氧化矽层厚度。本研究并量测platinum/ /SiO /Si及poly-oxide/poly-silicon/SiO /Si这两个材料结构以验证本法的实 用性。 由实验的结果发现,愈厚的铂金属薄膜的 n及 k值愈接近其基体(bulk)的折射与吸收 系数。这与我们的预测相同。另外对poly-oxide/poly-silicon/SiO /Si的量测, 经α-stepper及剖面TEM 的验证,显示我们发展出来的方法可以很正确的量得 poly- oxide 及poly-silicon的厚度。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT782430130 http://hdl.handle.net/11536/54743 |
显示于类别: | Thesis |