標題: 銅化學氣相沉積技術開發與銅金屬化系統之可靠度研究
Development of Cu CVD technology and reliability issue of Cu metallization relevant to ULSI application
作者: 邱榮照
陳茂傑
電子研究所
公開日期: 1994
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT836430102
http://hdl.handle.net/11536/59944
顯示於類別:畢業論文