氧氣電漿灰化技術在光阻減薄技術應用上的特性研究及均勻度控制

標題:	氧氣電漿灰化技術在光阻減薄技術應用上的特性研究及均勻度控制 Characterization and Uniformity Control of Resist Thinning Using Plasma Ashing Technology
作者:	郭俊伊 Kuo, Chun Yi 馮明憲 Ming Shiann Feng 材料科學與工程學系
關鍵字:	電漿灰化;光阻減薄;非均向性比值;巨觀負載效應;均勻度偏移;Plasma ashing;Resist thinning;Anisotropic ratio;Macroloading effect;Unifromity deviation
公開日期:	1996
URI:	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT850159034 http://hdl.handle.net/11536/61611
顯示於類別：	畢業論文