標題: | 矽鍺非應力層在高速電晶體及射頻元件的應用 Application of Strain-Relaxed SiGe in High Speed Transistor and RF Devices |
作者: | 荊鳳德 CHIN ALBERT 國立交通大學電子工程學系 |
公開日期: | 2000 |
官方說明文件#: | NSC89-2215-E009-100 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/91252 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583875&docId=109703 |
顯示於類別: | 研究計畫 |