標題: | 自我對準鈷金屬矽化製程之熱穩定性及其對超薄閘極氧化層特性影響之研究 Thermeal Stability of Co Salicide and Its Impact on the Characteristics of Ultra-Thin Gate Oxides |
作者: | 黃調元 TIAO-YUANHUANG 國立交通大學電子工程學系 |
公開日期: | 2000 |
官方說明文件#: | NSC89-2215-E009-105 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/93841 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583894&docId=109708 |
顯示於類別: | 研究計畫 |