晶圓製造廠黃光區派工法則之研究

標題:	晶圓製造廠黃光區派工法則之研究 A Study of Dispatching Rules for Photolithography Area in Wafer Fabrication Factories
作者:	李慶恩交通大學工業工程與管理系
關鍵字:	晶圓製造;黃光區;瓶頸;派工法則;Wafer fabrication;Photolithography area;Bottleneck;Dispatching rule
公開日期:	1997
官方說明文件#:	NSC86-2213-E009-001
URI:	http://hdl.handle.net/11536/95394 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=268639&docId=47816
顯示於類別：	研究計畫