晶圓製造廠黃光區派工法則之研究

标题:	晶圆制造厂黄光区派工法则之研究 A Study of Dispatching Rules for Photolithography Area in Wafer Fabrication Factories
作者:	李庆恩交通大学工业工程与管理系
关键字:	晶圆制造;黄光区;瓶颈;派工法则;Wafer fabrication;Photolithography area;Bottleneck;Dispatching rule
公开日期:	1997
官方说明文件#:	NSC86-2213-E009-001
URI:	http://hdl.handle.net/11536/95394 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=268639&docId=47816
显示于类别：	Research Plans

APA	李. (1997). 晶圆制造厂黄光区派工法则之研究. https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=268639&docId=47816.
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