| 標題: | 銅的化學氣相沉積技術及其在深次微米積體電路之應用的研究 Cu-CVD Technology and Reliability Issues of Cu Metallization |
| 作者: | 陳茂傑 國立交通大學電子工程研究所 |
| 公開日期: | 1996 |
| 官方說明文件#: | NSC85-2215-E009-068 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/96209 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=218537&docId=38693 |
| Appears in Collections: | Research Plans |
