標題: 低介電常數材料與銅製程整合之研究(I)
Study on the Integration of Low Dielectric Constant Materials and Copper Interconnect(I)
作者: 施敏
SZE SIMON MIN
國立交通大學電子工程學系
公開日期: 2000
官方說明文件#: NSC89-2215-E009-098
URI: http://hdl.handle.net/11536/98517
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583867&docId=109701
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