低介電常數材料與銅製程整合之研究(I)

標題:	低介電常數材料與銅製程整合之研究(I) Study on the Integration of Low Dielectric Constant Materials and Copper Interconnect(I)
作者:	施敏 SZE SIMON MIN 國立交通大學電子工程學系
公開日期:	2000
官方說明文件#:	NSC89-2215-E009-098
URI:	http://hdl.handle.net/11536/98517 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583867&docId=109701
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