| 標題: | 低介電常數材料與銅製程整合之研究(I) Study on the Integration of Low Dielectric Constant Materials and Copper Interconnect(I) |
| 作者: | 施敏 SZE SIMON MIN 國立交通大學電子工程學系 |
| 公開日期: | 2000 |
| 官方說明文件#: | NSC89-2215-E009-098 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/98517 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583867&docId=109701 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
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