標題: | 複晶矽薄膜電晶體電漿鈍化效應之研究 Study of plasama passivation effects on polycrystalline silicon TFTs |
作者: | 王盛勇 WANG, SHENG-YONG 鄭晃忠 AHENG, HUANG-ZHONG 電子研究所 |
關鍵字: | 複晶矽薄膜;電晶體;電漿鈍化效應 |
公開日期: | 1991 |
摘要: | 複晶矽薄膜電晶體經電漿鈍化處理後電性有明顯的提昇,本文針對不同的氮氣氫氣 混合比例電漿進行研究,結果發現含有氮氣的氫電漿呈現比純氫電漿處理更佳的電 性。另外,無線電頻率激發的氧電漿亦被採用來與氮氣等比例混合電漿做比較,由 於氧電漿具有雙鍵鈍化與晶粒成長的雙重效果,所以在元件特性上,比氮氫混合電 漿呈現較好的改善。除此之外,我們也用微波激發電漿的系統和無線電頻率電漿做 比較,因為微波電漿系統具有較高的電漿密度,以及造成較少的電漿破壞,因此, 元件的漏電流能被大幅的降低。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT802430075 http://hdl.handle.net/11536/56111 |
顯示於類別: | 畢業論文 |