| 標題: | 嵌附減光式相移光罩吸光相移層研製 Fabrication of Absorptive Shifter Layer for Embedded Attenuated Phase Shift Mask |
| 作者: | 龍文安 Loong Wen-an 交通大學應用化學系 |
| 關鍵字: | 相移光罩;嵌入;減光;微影技術;Phase shifting mask;Embedding;Attenuated;Microlithography |
| 公開日期: | 1997 |
| 官方說明文件#: | NSC86-2215-E009-036 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/95360 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=283436&docId=51274 |
| Appears in Collections: | Research Plans |

