標題: 雙狹縫斑點全像干涉術對位移之分析
作者: 吳上富
Wu, Shang-Fu
張明文
黃廣志
Zhang, Ming-Wen
Huang, Guang-Zhi
電子研究所
關鍵字: 雙狹縫斑點;全像干涉術;對位移之分析;電子工程;ELECTRONIC-ENGINEERING
公開日期: 1979
摘要: 本文主要的目的是研究位置的變化在雙狹縫斑點全像干涉術中所產生的現象,且由基 本的位移形態及特性,建立理論模式與實驗系統,並和一船的斑點全像干涉術加以比 較。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT684430024
http://hdl.handle.net/11536/51171
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